גודל החלקיקים של חומר משחרר סיליקון ניטריד בטוהר גבוה הוא בין 1-2 מיקרון, מה שיכול לפתור ביעילות את בעיית החמצון במהלך תהליך הריפוי בטמפרטורה גבוהה של הציפוי, ומשפר מאוד את הטוהר של הסיליקון הפולי-גבישי וסיליקון גבישי יחיד, וטוהר האבקה שלה יכול להיות. זה מגיע ליותר מ-99.99% וניתן להשתמש בו כחומר ציפוי כור היתוך להמסת מטילי סיליקון פוליבריסטליים בתעשייה הפוטו-וולטאית.
זה יכול למעשה למנוע מהדופן הפנימית של כור ההיתוך להיצמד לחומר הסיליקון המותך, להקל על פירוק התבנית ולשמש כשכבת מחסום כדי להבטיח את טוהר מטילי הסיליקון. המוצר נמצא בשימוש על ידי יצרנים רבים בג'יאנגשי, פוג'יאן, ג'יאנגסו, הנאן וכו', ויש לו ביצועים מצוינים לשחרור תבנית. , ובהשוואה לננו סיליקון ניטריד או סוגים אחרים של חומרי שחרור, יש לו תכונות נוגדות חמצון מצוינות, מה שמבטיח שניתן לשלוט ביעילות בריכוז הזיהומים כמו פחמן וחמצן במהלך תהליך הייצור.
למוצר טוהר גבוה, גודל חלקיקים אחיד, וביצועיו מתאימים לחלוטין למוצרים זרים דומים. זה יוצר בייצור המוני.
