Feb 23, 2024 השאר הודעה

Magnetron Sputtering טיטניום טכנולוגיית הכנת מטרות

ניתן לחלק את שיטת הטכנולוגיה של הכנת חומרי הגלם של מטרת טיטניום מקרטעת מגנטרון לשתי קטגוריות בהתאם לתהליך הייצור: בילט המסת קרן אלקטרונים (המכונה EB בילט) ובילט מתכלה של תנור קשת חשמלי מתכלה בוואקום (המכונה (VAR) billet ).

 

במהלך תהליך הכנת המטרה, בנוסף לשליטה קפדנית על הטוהר, הצפיפות, גודל הגרגירים וכיוון הגבישים של החומר, יש צורך בשליטה קפדנית על תנאי תהליך הטיפול בחום ותהליכי הדפוס הבאים כדי להבטיח את איכות המטרה.

Sputtering Titanium Target manufacturer

עבור חומרי גלם של טיטניום בטוהר גבוה, אלקטרוליזה התכה משמשת בדרך כלל להסרת יסודות טומאה בעלי נקודת התכה גבוהה במטריצת הטיטניום, ולאחר מכן משתמשים בהתכת קרן אלקטרונים בוואקום לטיהור נוסף.


המסת קרן אלקטרונים בוואקום משתמשת בקרני אלקטרונים בעלות אנרגיה גבוהה כדי להפציץ את פני המתכת, ואז הטמפרטורה עולה בהדרגה עד שהמתכת נמסה. אלמנטים עם לחץ אדים גבוה יתנדפו בצורה מועדפת, בעוד שאלמנטים עם לחץ אדים נמוך יישארו בהמסה. האינטראקציה בין יסודות הטומאה למטריצה ​​ככל שההבדל בלחץ האדים גדול יותר, כך אפקט הטיהור טוב יותר.

Sputtering Titanium Target supplier
היתרון של זיקוק ואקום לאחר התכה הוא הסרת יסודות זיהומים במטריצת הטיטניום מבלי להכניס זיהומים אחרים. לכן, כאשר 99.99% טיטניום אלקטרוליטי מומס באמצעות אלומת אלקטרונים בסביבת ואקום גבוה (מעל 10-4), יסודות הטומאה (Fe, Co, Cu) בחומר הגלם שלחץ האדים הרווי שלו גבוה מהאדים הרוויים. הלחץ של יסוד הטיטניום עצמו יתנדף בצורה מועדפת, הפחת את תכולת הטומאה במטריצה ​​כדי להשיג את מטרת הטיהור.


השילוב של שתי השיטות יכול להשיג מתכת טיטניום בטוהר גבוה בטוהר של יותר מ-99.995. עבור חומרי גלם טיטניום עם טוהר של 99.9%, לעתים קרובות נעשה שימוש בטיטניום ספוג מסוג 0, הנמס בכבשן קשת חשמלי מתכלה בוואקום ולאחר מכן מזויף חם ליצירת בילט בגודל קטן. חומרי הגלם המטיטניום המתכתיים שהוכנו בשתי שיטות אלו שולטים במיקרו-מבנה של כל משטח הקפיצה כדי להיות עקבי באמצעות דפורמציה תרמו-מכאנית, ולאחר מכן מעובדים למטרות טיטניום מקרטעות מגנטרון להכנת מעגלים משולבים באמצעות תהליכים כגון עיבוד שבבי, כריכה, ניקוי ואריזה.

Sputtering Titanium Target price

שלח החקירה

הבית

טלפון

דוא

חקירה